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湿度控制是无尘车间生产必需具备的重要条件，相对湿度是无尘车间、洁净室运作过程中一个常用的环境控制条件。半导体无尘车间、洁净室中的典型的相对湿度的目标值大约控制在30至50%的范围内，允许误差在±1%的狭窄的范围内，例如光刻区或者在远紫外线处理（DUV）区甚至更小而在其他地方则可以放松到±5%的范围内。
近年，在这些规定范围中保持处理空气过程，使我们必需承担资金和运营成本。但是为什么值得花费这么多钱用在无尘车间、洁净室中控制相对湿度呢？道理很简单！因为相对湿度有一系列可能使洁净室总体表现下降的因素，其中包括：
1、细菌生长；
2、工作人员感到室温舒适的范围；
3、出现静电荷；
4、金属腐蚀；
5、水汽冷凝；
6、光刻的退化；
7、吸水性。
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